HYALURONIC ACID & ALGAE MOISTURE BOOSTING MASK CHOK-CHOK

Le Ondo Hyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok est un masque en tissu biodégradable conçu pour offrir une hydratation intense et un éclat radieux, incarnant le concept coréen de "peau de verre". Formulé avec de l'acide hyaluronique, de l'extrait d'algue, et 88% d'eau d'hamamélis, ce masque apaise et hydrate la peau tout en réduisant l'apparence des pores. Sa composition enrichie en 7 types d'extraits d'algues et de narcisse fournit des nutriments essentiels, tandis que la niacinamide illumine et uniformise le teint, et l'Aquaxyl optimise l'hydratation et prévient la déshydratation.

Caractéristiques principales :

• Ingrédients Clés : Acide hyaluronique, extrait d'algue, eau d'hamamélis (88%), Complexe de Plantes Marines, niacinamide, Aquaxyl.
• Formule : Hydratante, illuminante, anti-déshydratation, biodégradable.
• Volume : Masque en tissu.

Avantages :

• Hydrate Intensément : Acide hyaluronique et eau d'hamamélis pour une peau hautement hydratée.
• Apaise et Minimise les Pores : Extrait d'algue et eau d'hamamélis pour calmer la peau et réduire les pores dilatés.
• Illumine le Teint : Niacinamide pour une peau éclatante et uniforme.
• Prévient la Déshydratation : Aquaxyl pour optimiser l'hydratation et maintenir une peau bien hydratée.
• Convient aux Peaux Sensibles : Formulé pour être doux et non irritant, adapté aux peaux sensibles et déshydratées.

Mode d’emploi :

• Application : Appliquez le masque sur le visage propre et sec. Laissez agir pendant 15-20 minutes, puis retirez-le et massez l'excès de sérum sur la peau.

Conclusion :

Le Ondo Hyaluronic Acid & Algae Moisture Boosting Mask Chok-Chok est idéal pour ceux qui recherchent une hydratation profonde et un éclat radieux. Sa formule riche et apaisante transforme la peau sèche en une peau visiblement plus lisse et lumineuse, tout en minimisant les pores et en prévenant la déshydratation.